[实用新型]一种金属‑半导体双纳米线型混合表面等离子波导结构有效
| 申请号： | 201720581406.2 | 申请日： | 2017-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN206757090U | 公开（公告）日： | 2017-12-15 |
| 发明（设计）人： | 徐政杰;朱君;秦柳丽;傅得立 | 申请（专利权）人： | 广西师范大学 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司45112 | 代理人： | 刘梅芳 |
| 地址： | 541004 广西壮*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种金属‑半导体双纳米线型混合表面等离子波导结构，其特征是，包括自下而上顺序叠接的二氧化硅基底、低折射率缓冲层、低折射率介质包层和金属Ag纳米带顶层，所述低折射率缓冲层中设有对称掩埋的第一纳米线和第二纳米线，第一纳米线和第二纳米线之间刻蚀有低折射率介质连通间隙。这种波导结构能够提高更强的局域化约束，具备为表面等离子激励电路提供基本单元器件，从而实现更大的带宽超快数据传输。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 半导体 纳米 线型 混合 表面 等离子 波导 结构 | ||
【主权项】：
一种金属‑半导体双纳米线型混合表面等离子波导结构，其特征是，包括自下而上顺序叠接的二氧化硅基底、低折射率缓冲层、低折射率介质包层和金属Ag纳米带顶层，所述低折射率缓冲层中设有对称掩埋的第一纳米线和第二纳米线，第一纳米线和第二纳米线之间刻蚀有低折射率介质连通间隙。
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