[实用新型]同位素生产装置有效

专利信息
申请号: 201720581580.7 申请日: 2017-05-23
公开(公告)号: CN207800158U 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: F·斯蒂谢尔博 申请(专利权)人: 离子束应用股份有限公司
主分类号: G21G1/00 分类号: G21G1/00
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 武娟;郑霞
地址: 比利时*** 国省代码: 比利时;BE
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摘要: 实用新型涉及一种同位素生产装置,该同位素生产装置包括用于产生粒子束的回旋加速器、包围所述回旋加速器的屏蔽、包括在所述屏蔽内的靶系统。该屏蔽包括具有至少100kg/m3的氢含量的第一层以及第二层,该第二层包含至少4900kg/m3的具有等于或高于26的原子序数的材料和至少29kg/m3的氢。本实用新型的自屏蔽同位素生产装置定位于具有有限厚度的壁的库中,同时满足在该库外部的公共区域中的有限剂量率的要求。
搜索关键词: 同位素生产 屏蔽 本实用新型 回旋加速器 粒子束 公共区域 原子序数 装置定位 靶系统 第一层 剂量率 自屏蔽 包围 外部
【主权项】:
1.同位素生产装置,包括:a)用于生产粒子束的回旋加速器(10);b)包围所述回旋加速器的屏蔽(40);c)包括在所述屏蔽(40)内的靶(20)系统;其特征在于,所述屏蔽包括1)第一层(80),所述第一层(80)包含石蜡或聚乙烯或水;2)第二层(90),所述第二层(90)包含填充有铁球和水的体积,该水填充这些铁球之间的开放空间。
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