[实用新型]一种PCB化学沉铜装置有效
申请号: | 201720607204.0 | 申请日: | 2017-05-26 |
公开(公告)号: | CN206902235U | 公开(公告)日: | 2018-01-19 |
发明(设计)人: | 夏继刚 | 申请(专利权)人: | 东莞翔国光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40 |
代理公司: | 东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙)44400 | 代理人: | 蒋亚兵 |
地址: | 523378 *** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型系提供一种PCB化学沉铜装置,包括底座,底座上设有反应槽,反应槽内设有可取出的挂篮,反应槽底部设有搅拌桨,搅拌桨连接电机;底座的一侧设有容器支架,容器支架上设有若干药水容器,药水容器通过第一管道连接水泵的输入端,水泵的输出端通过第二管道连接反应槽。本实用新型设有持续供反应物药水的装置,为反应槽不断提供反应物药水,能够有效保持反应槽内的反应溶液浓度长期处于在一定区间内,即使沉铜反应消耗了反应物,反应物也能够获得及时的补充,反应溶液的浓度仍能够保持在稳定范围内,进而有效确保每块PCB沉铜都获得良好的效果,提高PCB沉铜的良率,同时使各PCB的沉铜效果相近。 | ||
搜索关键词: | 一种 pcb 化学 装置 | ||
【主权项】:
一种PCB化学沉铜装置,其特征在于,包括底座(10),所述底座(10)上设有反应槽(11),所述反应槽(11)内设有可取出的挂篮(12),所述反应槽(11)底部设有搅拌桨(13),所述搅拌桨(13)连接电机(14);所述底座(10)的一侧设有容器支架(20),所述容器支架(20)上设有若干药水容器(21),所述药水容器(21)通过第一管道(22)连接水泵(23)的输入端,所述水泵(23)的输出端通过第二管道(24)连接所述反应槽(11)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞翔国光电科技有限公司,未经东莞翔国光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720607204.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于LPCVD预热腔的加热装置
- 下一篇:一种金属带表面处理设备
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理