[实用新型]一种气吹辅助刮涂法制备钙钛矿薄膜设备有效
申请号: | 201720617847.3 | 申请日: | 2017-05-31 |
公开(公告)号: | CN206727105U | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 王疏影;黄小娜;于淼 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L51/48 | 分类号: | H01L51/48 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 610054 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种气吹辅助刮涂法制备钙钛矿薄膜设备,包括传送带装置、溶液自动滴加装置和气吹辅助刮刀装置;所述溶液自动滴加装置和气吹辅助刮刀装置均设于所述传送带装置的正上方,且所述气吹辅助刮刀装置设于所述溶液自动滴加装置的后方;所述气吹辅助装置包括风管和设于所述风管的底部的刮刀,所述风管的底部还设有与外部相通的出气孔;所述风管设有进气管用于连通吹气装置;所述传送带装置的传送带上设有基片固定机构。本实用新型通过采用气吹辅助刮刀装置,在刮膜的同时进行气吹,用通过物理法促进溶液成核,并形成晶粒致密的薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 辅助 法制 备钙钛矿 薄膜 设备 | ||
【主权项】:
一种气吹辅助刮涂法制备钙钛矿薄膜设备,其特征在于,包括溶液自动滴加装置、传送带装置和气吹辅助刮刀装置;所述溶液自动滴加装置和气吹辅助刮刀装置均设于所述传送带装置的正上方,且所述气吹辅助刮刀装置设于所述溶液自动滴加装置的后方;所述气吹辅助装置包括风管和设于所述风管的底部的刮刀,所述风管的底部还设有与外部相通的出气孔;所述风管设有进气管用于连通吹气装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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