[实用新型]一种钙钛矿薄膜后处理设备有效

专利信息
申请号: 201720629820.6 申请日: 2017-06-02
公开(公告)号: CN207009480U 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 杭州纤纳光电科技有限公司
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/48
代理公司: 浙江一墨律师事务所33252 代理人: 陈红珊,杨馨雨
地址: 311121 浙江省杭州市余杭区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及一种钙钛矿薄膜后处理设备,包括溶液喷涂清洗部分和/或溶剂沉积部分,溶液喷涂清洗部分包括第一传送装置、第一密闭腔室以及溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置,高压气体喷嘴装置设置在溶液喷涂装置和高温干燥装置之间,第一传送装置横跨第一密闭腔室。溶剂沉积部分包括传动轴装置、第二密闭腔室以及加热装置和溶剂蒸发装置,溶剂蒸发装置靠近溶液喷涂清洗部分,传动轴装置的转动轴从上下设置的加热装置和溶剂蒸发装置之间通过。本实用新型对已制备了钙钛矿薄膜基片进行后续清洗和退火处理,对钙钛矿薄膜的缺陷进行修补处理,进一步提高钙钛矿薄膜的质量。
搜索关键词: 一种 钙钛矿 薄膜 处理 设备
【主权项】:
一种钙钛矿薄膜后处理设备,其特征在于,包括溶液喷涂清洗部分和溶剂沉积部分,所述溶液喷涂清洗部分包括可控制进出的第一密闭腔室以及设置在第一密闭腔室内的溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置,所述高压气体喷嘴装置设置在溶液喷涂装置和高温干燥装置之间,在所述第一密闭腔室上还设置有第一排气管道,所述溶液喷涂清洗部分还包括输送钙钛矿薄膜基片的第一传送装置,所述第一传送装置横跨所述第一密闭腔室,所述第一传送装置的传送带或传送轴设置在溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置的正下方;所述溶剂沉积部分包括可控制进出的第二密闭腔室以及设置在第二密闭腔室内的加热装置和溶剂蒸发装置,所述溶剂蒸发装置靠近溶液喷涂清洗部分,在所述第二密闭腔室上还设置有第二排气管道,所述溶剂沉积部分还包括横跨第二密闭腔室的传动轴装置,所述传动轴装置与第一传送装置衔接,用于传送从第一传送装置传输来的钙钛矿薄膜基片进入第二密闭腔室内,所述传动轴装置的转动轴从上下设置的加热装置和溶剂蒸发装置之间通过。
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