[实用新型]双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池有效

专利信息
申请号: 201720645616.3 申请日: 2017-06-06
公开(公告)号: CN207282509U 公开(公告)日: 2018-04-27
发明(设计)人: 刘正新;孟凡英;张丽平;石建华;俞健;刘金宁;刘毓成 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L31/072 分类号: H01L31/072;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 代理人: 罗泳文
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池,包括n型硅衬底;窗口层,包括具有宽光学带隙的本征非晶硅或者微晶硅以及n型掺杂的非晶硅或者微晶硅;背场层,包括本征非晶硅或者微晶硅以及p型掺杂的非晶硅或者微晶硅;第一透明导电薄膜;第二透明导电薄膜;第一电极;以及第二电极。本实用新型的双面受光太阳电池使用具有宽光学带隙、低缺陷密度的本征非晶硅或者微晶硅以及n型非晶硅或者微晶硅薄膜叠层作为窗口层,有效降低窗口层的缺陷密度,减少对太阳光的吸收损失,提高太阳电池和光伏组件的光电转换效率和发电功率输出。与现有的HIT电池相比,本实用新型具有更宽的工艺窗口,有利于大批量生产的工艺控制和管理。
搜索关键词: 双面 晶体 薄膜 硅异质结 太阳电池
【主权项】:
一种双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池,其特征在于,所述太阳电池包括:n型硅衬底,其具有相对的第一表面及第二表面;窗口层,形成于所述n型硅衬底的第一表面,其包括具有宽光学带隙的本征非晶硅或者微晶硅以及n型掺杂的非晶硅或者微晶硅;背场层,形成于所述n型硅衬底的第二表面,其包括本征非晶硅或者微晶硅以及p型掺杂的非晶硅或者微晶硅;第一透明导电薄膜,形成于所述窗口层表面;第二透明导电薄膜,形成于所述背场层表面;第一电极,制作于所述第一透明导电薄膜上;第二电极,制作于所述第二透明导电薄膜上。
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