[实用新型]一种减反射膜及镜片有效

专利信息
申请号: 201720652600.5 申请日: 2017-06-07
公开(公告)号: CN207181731U 公开(公告)日: 2018-04-03
发明(设计)人: 李唯宏 申请(专利权)人: 鹤山市嘉米基光电科技有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 广州恒华智信知识产权代理事务所(普通合伙)44299 代理人: 廖金燕
地址: 529700 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及光学部件技术领域,尤其涉及一种减反射膜及镜片。该减反射膜包括镀设于基底表面的至少一层膜,每层膜均由五氧化三钛层和镀设于该五氧化三钛层表面的二氧化硅层组成,每层膜五氧化三钛层的厚度均为10nm‑20nm。本实用新型由于五氧化三钛层的厚度仅仅为10nm‑20nm,使得五氧化三钛层镀制时间极短,大大降低了镀制膜层时基底表面温度,避免了基底受温变形与熔融的影响,不会使得基底由于温度过高而损坏有机高分子基底。
搜索关键词: 一种 减反射膜 镜片
【主权项】:
一种减反射膜,用于有机高分子基底表面,包括镀设于有机高分子基底表面的五层膜,其特征在于,每层膜均由五氧化三钛层和镀设于该五氧化三钛层表面的二氧化硅层组成,每层膜五氧化三钛层的厚度均为10nm‑20nm;所述五层膜分别为从有机高分子基底表面依次镀设的第一层膜、第二层膜、第三层膜、第四层膜和第五层膜,其中,第一层膜的二氧化硅层的厚度为:27.5nm‑53.1nm;第二层膜的二氧化硅层的厚度为:2.0nm‑5.0nm;第三层膜的二氧化硅层的厚度为:12.5nm‑45.6nm;第四层膜的二氧化硅层的厚度为:5.0nm‑11.3nm;第五层膜的二氧化硅层的厚度为:89.8nm‑105.0nm。
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