[实用新型]可万向调节的磁吸式支架有效

专利信息
申请号: 201720668504.X 申请日: 2017-06-09
公开(公告)号: CN207045257U 公开(公告)日: 2018-02-27
发明(设计)人: 杨伟煜 申请(专利权)人: 本质(深圳)信息技术有限公司
主分类号: B60R11/02 分类号: B60R11/02
代理公司: 厦门市新华专利商标代理有限公司35203 代理人: 徐勋夫
地址: 518000 广东省深圳市龙华新区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种可万向调节的磁吸式支架,包括底座组件、磁吸组件以及将底座组件与磁吸组件连接成一体的支撑杆;支撑杆的两端分别连接有第一万向球、第二万向球;底座组件具有与第一万向球适配的第一球面凹槽,磁吸组件具有与第二万向球适配的第二球面凹槽;磁吸组件具有用于吸附物品的磁吸部分,磁吸组件与支撑杆一端之间通过第二球面凹槽与第二万向球的适配而彼此可万向旋转式设置;底座组件与支撑杆另一端之间通过第一球面凹槽与第一万向球的适配而彼此可万向旋转式设置;藉此,通过双万向球头结构的设计,实现了支撑杆与物品可同时任意角度调节,可达到最佳的使用角度,以及,减少了支撑杆旋转带来的疲劳,增加了支架的使用寿命。
搜索关键词: 万向 调节 磁吸式 支架
【主权项】:
一种可万向调节的磁吸式支架,其特征在于:包括底座组件、磁吸组件以及将底座组件与磁吸组件连接成一体的支撑杆;其中,所述支撑杆的两端分别连接有第一万向球、第二万向球,所述第一万向球、第二万向球均与支撑杆位置相对固定;所述底座组件具有与第一万向球适配的第一球面凹槽,所述磁吸组件具有与第二万向球适配的第二球面凹槽;所述磁吸组件具有用于吸附物品的磁吸部分,所述磁吸组件与支撑杆一端之间通过第二球面凹槽与第二万向球的适配而彼此可万向旋转式设置;所述底座组件与支撑杆另一端之间通过第一球面凹槽与第一万向球的适配而彼此可万向旋转式设置。
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