[实用新型]硅异质结太阳电池有效

专利信息
申请号: 201720707435.9 申请日: 2017-06-16
公开(公告)号: CN207398153U 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 田宏波;王伟;赵晓霞;王恩宇;宗军;李洋;杨瑞鹏;周永谋 申请(专利权)人: 国家电投集团科学技术研究院有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0747;H01L31/20
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 102209 北京市昌平区未来科技城国*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了硅异质结太阳电池。该太阳电池包括:n型晶硅衬底层;轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层,氢化非晶硅缓冲层形成在衬底层的上、下两侧表面上;重掺杂p型氢化非晶硅发射极层,氢化非晶硅发射极层形成在一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;重掺杂n型氢化非晶硅背场层,氢化非晶硅背场层形成在另一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;透明导电氧化物层,透明导电氧化物层形成在氢化非晶硅发射极层和氢化非晶硅背场层的表面上;金属栅线电极层,金属栅线电极层包括:合金过渡层,合金过渡层形成在透明导电氧化物层、氢化非晶硅背场层和氢化非晶硅发射极层至少一层表面上;含铜导电合金层,含铜导电合金层形成在合金过渡层的表面上。
搜索关键词: 硅异质结 太阳电池
【主权项】:
1.一种硅异质结太阳电池,其特征在于,包括:n型晶硅衬底层;轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层,所述轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层形成在所述衬底层的上、下两侧表面上;重掺杂p型氢化非晶硅发射极层,所述重掺杂p型氢化非晶硅发射极层形成在一侧所述轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层的表面上;重掺杂n型氢化非晶硅背场层,所述重掺杂n型氢化非晶硅背场层形成在另一侧所述轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层的表面上;透明导电氧化物层,所述透明导电氧化物层形成在所述重掺杂p型氢化非晶硅发射极层和所述重掺杂n型氢化非晶硅背场层的表面上;金属栅线电极层,所述金属栅线电极层包括:合金过渡层,所述合金过渡层形成在所述透明导电氧化物层、所述重掺杂n型氢化非晶硅背场层和所述重掺杂p型氢化非晶硅发射极层至少一层的表面上;含铜导电合金层,所述含铜导电合金层形成在所述合金过渡层的表面上。
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