[实用新型]一种磁共振成像仪临床科研用泄露磁场屏蔽装置有效
申请号: | 201720715315.3 | 申请日: | 2017-06-19 |
公开(公告)号: | CN206851262U | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
发明(设计)人: | 戴真煜 | 申请(专利权)人: | 盐城市第三人民医院 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 224000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种磁共振成像仪临床科研用泄露磁场屏蔽装置,包括屏蔽罩,所述的屏蔽罩内设有磁共振成像仪,屏蔽罩一侧设有进出门,所述的屏蔽罩采用双层结构,屏蔽罩呈六面体状;所述的进出门一侧设有观察窗,所述的观察窗采用双层玻璃结构,双层玻璃之间设有屏蔽铜网。进出门采用单扇平开结构,进出门采用铜板、木龙骨和不锈钢框架焊接制成,屏蔽铜网采用双层结构,双层铜网之间距离为40至60厘米,所述屏蔽铜网目数为20至40目。本实用新型采用模块化结构,方便移动安装,成本低,屏蔽效果好。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁共振 成像 临床 科研 泄露 磁场 屏蔽 装置 | ||
【主权项】:
一种磁共振成像仪临床科研用泄露磁场屏蔽装置,包括屏蔽罩(1),所述的屏蔽罩(1)内设有磁共振成像仪(2), 屏蔽罩(1)一侧设有进出门(3),其特征在于:所述的屏蔽罩(1)采用双层结构,屏蔽罩(1)呈六面体状;所述的进出门(3)一侧设有观察窗(4),所述的观察窗(4)采用双层玻璃结构,双层玻璃之间设有屏蔽铜网(5)。
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