[实用新型]微纳米薄膜制备装置有效
申请号: | 201720717038.X | 申请日: | 2017-06-20 |
公开(公告)号: | CN206789565U | 公开(公告)日: | 2017-12-22 |
发明(设计)人: | 赵志强;黄静;涂友超;刘江峰;耿晓菊;肖振宇;尤帅 | 申请(专利权)人: | 信阳师范学院 |
主分类号: | H01L51/48 | 分类号: | H01L51/48;H01L51/56 |
代理公司: | 苏州根号专利代理事务所(普通合伙)32276 | 代理人: | 项丽 |
地址: | 464000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种微纳米薄膜制备装置,包括底座,底座的上侧面为平整的工作面,工作面下方形成真空腔体,真空腔体上设有抽气转接头,工作面上设有若干个吸气孔;工作面的上方铺设有样品基底,样品基底通过吸气孔产生的吸力吸附于工作面上,样品基底的两侧通过固定棒固定;另设有压覆膜、前驱体溶液、胶头滴管和刮刀,胶头滴管将前驱体溶液吸取后滴入样品基底上,压覆膜压覆位于样品基底上的前驱体溶液上,刮刀刮动压覆膜使前驱体溶液均匀涂布于样品基底上形成均一薄膜。该微纳米薄膜制备装置结构简单,可制备几百到几十微米尺寸厚度的大面积薄膜,为微纳尺度薄膜的大面积制备提供很好的平台,有利于推动产品的规模化生产。 | ||
搜索关键词: | 纳米 薄膜 制备 装置 | ||
【主权项】:
一种微纳米薄膜制备装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座的上侧面为平整的工作面(2),所述底座位于其工作面下方形成真空腔体(3),所述真空腔体上设有抽气转接头(4),所述工作面上设有若干个吸气孔(5)连通其内部的真空腔体;所述工作面的上方铺设有样品基底(6),所述样品基底将所述吸气孔覆盖并通过所述吸气孔产生的吸力吸附于所述工作面上,所述样品基底的两侧通过固定棒(7)固定;另设有压覆膜(8)、前驱体溶液、胶头滴管(9)和刮刀(10),所述胶头滴管将所述前驱体溶液吸取后滴入所述样品基底上,所述压覆膜压覆位于所述样品基底上的前驱体溶液上,所述刮刀刮动所述压覆膜使所述前驱体溶液均匀涂布于所述样品基底上形成均一薄膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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