[实用新型]空穴型半导体异质结霍尔棒有效

专利信息
申请号: 201720754071.X 申请日: 2017-06-26
公开(公告)号: CN207217593U 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 李海欧;袁龙;王柯;曹刚;郭光灿;郭国平 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: H01L43/06 分类号: H01L43/06;H01L43/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 程纾孟
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了空穴型半导体异质结霍尔棒。其包含非掺杂GaAs/AlGaAs异质结基片,其由下到上依次包括非掺杂GaAs衬底、非掺杂AlGaAs层和表面非掺杂GaAs盖帽层;第一至第五欧姆接触电极,均依次穿过表面非掺杂GaAs盖帽层和非掺杂AlGaAs层,进入非掺杂GaAs衬底至少5nm,第三、第五欧姆接触电极之间的连线与第一、第四欧姆接触电极之间的连线垂直;第二、第三欧姆接触电极之间的连线与第一、第四欧姆接触电极之间的连线平行;绝缘层,其覆盖表面非掺杂GaAs盖帽层、第一至第五欧姆接触电极;顶栅极,其设置在绝缘层上,并且其水平投影与第一至第五欧姆接触电极均有交叠。
搜索关键词: 空穴 半导体 异质结 霍尔
【主权项】:
一种空穴型半导体异质结霍尔棒,所述空穴型半导体异质结霍尔棒包含:非掺杂GaAs/AlGaAs异质结基片(100),所述异质结基片(100)由下到上依次包括非掺杂GaAs衬底(101)、非掺杂AlGaAs层(102)和表面非掺杂GaAs盖帽层(103);第一和第四欧姆接触电极(201)、(204),所述第一和第四欧姆接触电极(201)、(204)依次穿过表面非掺杂GaAs盖帽层(103)和非掺杂AlGaAs层(102),进入所述非掺杂GaAs衬底(101)至少5nm;第三和第五欧姆接触电极(203)、(205),所述第三和第五欧姆接触电极(203)、(205)依次穿过表面非掺杂GaAs盖帽层(103)和非掺杂AlGaAs层(102),进入所述非掺杂GaAs衬底(101)至少5nm,所述第三和第五欧姆接触电极(203)、(205)之间的连线与所述第一和第四欧姆接触电极(201)、(204)之间的连线相互垂直;第二欧姆接触电极(202),所述第二欧姆接触电极(202)依次穿过表面非掺杂GaAs盖帽层(103)和非掺杂AlGaAs层(102),进入所述非掺杂GaAs衬底(101)至少5nm,所述第二欧姆接触电极(202)与所述第三欧姆接触电极(203)之间的连线与所述第一和第四欧姆接触电极(201)、(204)之间的连线相互平行;绝缘层(300),所述绝缘层(300)覆盖所述表面非掺杂GaAs盖帽层(103)、所述第一至第五欧姆接触电极(201)、(204)、(202)、(203)和(205);顶栅极(400),所述顶栅极(400)设置在所述绝缘层(300)上,并且其水平投影与所述第一至第五欧姆接触电极(201)、(204)、(202)、(203)和(205)均有交叠。
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