[实用新型]一种化学槽上的盖合装置以及清洗机台有效

专利信息
申请号: 201720756554.3 申请日: 2017-06-27
公开(公告)号: CN206931571U 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: 吴智翔;张弢;刘鹏 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/306
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 俞涤炯
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供了一种化学槽上的盖合装置以及清洗机台,应用于清洗晶圆的清洗机台上,包括化学槽,化学槽设置于清洗机台内,其特征在于,还包括与化学槽适配的盖板,盖板水平的盖合于化学槽的顶部;伸缩结构,设置于清洗机台的内部并与盖板连接,用以控制盖板于化学槽的顶部水平的伸缩移动,使盖板盖合或者远离化学槽的顶部;液体管,液体管连通化学槽,用以将化学槽中的液体排除至一回收装置。其技术方案的有益效果在于,通过设置于化学槽顶部的盖合装置可避免化学槽完全暴露于机台中,并且可有效解决化学槽中的酸性气体大量的溢出造成机台部件腐蚀损坏的问题。
搜索关键词: 一种 化学 装置 以及 清洗 机台
【主权项】:
一种化学槽上的盖合装置,应用于清洗晶圆的清洗机台上,包括化学槽,所述化学槽设置于所述清洗机台内,其特征在于,还包括:与所述化学槽适配的盖板,所述盖板水平的盖合于所述化学槽的顶部;伸缩结构,设置于所述清洗机台的内部,所述伸缩结构的一端设置于所述清洗机台的机架上,另一端与所述盖板连接,用以控制所述盖板于所述化学槽的顶部水平的伸缩移动,使所述盖板盖合或者远离所述化学槽的顶部;液体管,所述液体管连通所述化学槽,用以将所述化学槽中的液体排除至一回收装置。
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