[实用新型]一种循环卤制装置

摘要

本实用新型提供一种循环卤制装置，主要包括容器、缓冲层、循环泵及喷淋头，所述容器位于缓冲层上方，循环泵通过管道与喷淋头连接，所述容器两侧设有溢流槽，且溢流槽连通缓冲层，容器中设有料槽，缓冲层底部设有加热装置。料槽设有若干通孔。缓冲层底部通过管道与循环泵连接，且管道与缓冲层对接处具有过滤网。缓冲层底部设有震动器，且震动器位于管道与缓冲层对接处的端部。循环泵由时间继电器控制启闭。本实用新型利用上层卤制，下层加热卤水并反馈至上层进行循环喷淋的方式，可保证食材进行清卤水卤制，减少人工操作工序，提高效率，降低成本。

主权项

1.一种循环卤制装置，主要包括容器（1）、缓冲层（2）、循环泵（3）及喷淋头（4），所述容器（1）位于缓冲层（2）上方，循环泵（3）通过管道（21）与喷淋头（4）连接，其特征在于：所述容器（1）两侧设有溢流槽（11），且溢流槽（11）连通缓冲层（2），容器（1）中设有料槽（5），缓冲层（2）底部设有加热装置（6）。