[实用新型]一种吸膜及热熔机构以及绝缘膜上料、热熔和转移机构有效

专利信息
申请号: 201720815003.X 申请日: 2017-07-06
公开(公告)号: CN207097963U 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 林国栋;张松岭;乐伟;梁玉兵;周四军;彭海峰;唐百林 申请(专利权)人: 深圳市海目星激光科技有限公司
主分类号: H01M10/04 分类号: H01M10/04
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 唐致明
地址: 518110 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及电芯生产制造技术领域,尤其涉及一种吸膜及热熔机构以及绝缘膜上料、热熔和转移机构,所述吸膜及热熔机构用于将绝缘膜和托片进行热熔,其包括综合模组,综合模组包括用于吸取绝缘膜的吸膜机构和将绝缘膜和托片进行热熔的热熔机构,使得综合模组在一次动作中完成绝缘膜的分片取料和热熔,简化了绝缘膜的流动过程,吸膜机构对绝缘膜分片取料,避免了一次取多张的问题;还提供了一种绝缘膜上料、热熔和转移机构,包括托片上料机构、第一移动机构、热熔载台移载机构、第二移动机构和上述吸膜及热熔机构,用于托片的上料和转移、绝缘膜的上料和热熔,托片和绝缘膜的转移、热熔均由置膜平台承载,避免多次抓取造成绝缘膜的破损、折皱或翻折,有利于后续工序的顺利进行。
搜索关键词: 一种 机构 以及 绝缘 膜上料 转移
【主权项】:
一种吸膜及热熔机构,其特征在于:用于对绝缘膜进行取料并在热熔工位将绝缘膜和托片进行热熔,其包括综合模组,所述综合模组在绝缘膜料堆和热熔工位之间移动,所述综合模组包括吸膜机构和热熔机构,所述吸膜机构包括取料机构,用于绝缘膜的分片取料。
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