[实用新型]光学投影装置及其深度相机有效

专利信息
申请号: 201720820757.4 申请日: 2017-07-07
公开(公告)号: CN206532072U 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 许星;邓想全 申请(专利权)人: 深圳奥比中光科技有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G03B21/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供一种光学投影装置及应用其的深度相机,包括由半导体衬底以及设置在所述半导体衬底上的光源阵列组成的光源,所述光源用于发射光束;电路板,安装在所述半导体衬底上并开有通孔,所述通孔使得所述光束通过;光束生成器,安装在所述电路板上并用于接收所述光束后向外投射出图案光束;以及底座,所述底座安装在与所述电路板相对的所述半导体衬底的表面上,用于提供对所述光源的支撑和/或散热。本实用新型的光学投影装置具有体积小、散热性能高且结构稳定的特点,能够作为深度相机的一部分被集成到微型计算设备中。
搜索关键词: 光学 投影 装置 及其 深度 相机
【主权项】:
一种光学投影装置,其特征在于,包括:光源,包括半导体衬底以及设置在所述半导体衬底上的光源阵列,用于发射光束;电路板,安装在所述半导体衬底上并开有通孔,所述通孔使得所述光束通过;光束生成器,安装在所述电路板上并用于接收所述光束后向外投射出图案光束。
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