[实用新型]基座以及物理气相沉积装置有效

专利信息
申请号: 201720823996.5 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN207072968U 公开(公告)日: 2018-03-06
发明(设计)人: 武学伟;王桐;董博宇;张军;郭冰亮;王军;张鹤南;徐宝岗;马怀超;刘绍辉;赵康宁;耿玉洁;王庆轩;崔亚欣 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 焦玉恒
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开提供一种基座以及物理气相沉积装置。该基座包括基座本体,具有一支撑面;支撑柱,位于所述基座本体的所述支撑面的中部区域;以及支撑件,位于所述基座本体的围绕所述支撑面的中部区域的周边区域,其中,所述支撑柱被配置为支撑待加工件,所述支撑件被配置为支撑盖环,在所述待加工件被所述支撑柱支撑且所述盖环被所述支撑件支撑时,所述盖环的至少靠近内侧的部分位于所述待加工件的上侧,且所述盖环与所述待加工件彼此分离。该基座或物理沉积装置通过支撑件支撑盖环,从而使得盖环不与待加工件接触,减小了待加工件所受的外部零件的压力。
搜索关键词: 基座 及物 理气 沉积 装置
【主权项】:
一种基座,其特征在于,包括:基座本体,具有一支撑面;支撑柱,位于所述基座本体的所述支撑面的中部区域;以及支撑件,位于所述基座本体的围绕所述支撑面的中部区域的周边区域,其中,所述支撑柱被配置为支撑待加工件,所述支撑件被配置为支撑盖环,在所述待加工件被所述支撑柱支撑且所述盖环被所述支撑件支撑时,所述盖环的至少靠近内侧的部分位于所述待加工件的上侧,且所述盖环与所述待加工件彼此分离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司,未经北京北方华创微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720823996.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top