[实用新型]基座以及物理气相沉积装置有效
申请号: | 201720823996.5 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN207072968U | 公开(公告)日: | 2018-03-06 |
发明(设计)人: | 武学伟;王桐;董博宇;张军;郭冰亮;王军;张鹤南;徐宝岗;马怀超;刘绍辉;赵康宁;耿玉洁;王庆轩;崔亚欣 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供一种基座以及物理气相沉积装置。该基座包括基座本体,具有一支撑面;支撑柱,位于所述基座本体的所述支撑面的中部区域;以及支撑件,位于所述基座本体的围绕所述支撑面的中部区域的周边区域,其中,所述支撑柱被配置为支撑待加工件,所述支撑件被配置为支撑盖环,在所述待加工件被所述支撑柱支撑且所述盖环被所述支撑件支撑时,所述盖环的至少靠近内侧的部分位于所述待加工件的上侧,且所述盖环与所述待加工件彼此分离。该基座或物理沉积装置通过支撑件支撑盖环,从而使得盖环不与待加工件接触,减小了待加工件所受的外部零件的压力。 | ||
搜索关键词: | 基座 及物 理气 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种基座,其特征在于,包括:基座本体,具有一支撑面;支撑柱,位于所述基座本体的所述支撑面的中部区域;以及支撑件,位于所述基座本体的围绕所述支撑面的中部区域的周边区域,其中,所述支撑柱被配置为支撑待加工件,所述支撑件被配置为支撑盖环,在所述待加工件被所述支撑柱支撑且所述盖环被所述支撑件支撑时,所述盖环的至少靠近内侧的部分位于所述待加工件的上侧,且所述盖环与所述待加工件彼此分离。
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