[实用新型]双入射狭缝高分辨率成像光谱系统

摘要

本专利公开了一种双入射狭缝高分辨率成像光谱系统，它由双入射缝、分光子系统以及探测子系统构成，其中分光子系统包含主反射镜、凸面光栅、次反射镜以及校正透镜，探测子系统包含滤光片以及面阵探测器。系统具有高分辨率、快速重访时间、较低成本以及空间系统高集成化。双缝结构使系统实现一次观测同时获得两个目标区域的光谱信息，缩短重访时间；通过主反射镜、凸面光栅、次反射镜同心的设计方法，可以减小系统像差，提高系统分辨率。

主权项

一种双入射狭缝高分辨率成像光谱系统，包括双入射狭缝(1)、凹面反射主镜(2)、凸面反射光栅(3)、凹面反射次镜(4)、校正透镜(5)、滤光片(6)、面阵探测器(7)，其中凹面反射主镜(2)、凸面反射光栅(3)、凹面反射次镜(4)、校正透镜(5)构成分光子系统；滤光片(6)、面阵探测器(7)构成探测子系统，其特征在于：系统光阑位于凸面反射光栅(3)上，来自目标的双条带型辐射信号经过前端望远镜系统后分别成像于双入射狭缝(1)上，透过双狭缝的辐射能量经由凹面反射主镜(2)，反射到凸面反射光栅(3)上，把不同波长的光分开，不同波长的光线在凸面反射光栅(3)反射出后，沿着不同的角度反射至凹面反射次镜(4)上，经由凹面反射次镜反射出，进入校正透镜(5)，最终经过滤光片(6)汇聚到面阵探测器(7)的不同位置；所述的双入射狭缝(1)，对应两个不同视场；所述的凹面反射主镜(2)、凹面反射次镜(4)面型为球面；所述的凸面反射光栅(3)的面型为球面；所述的校正透镜(5)为弯月形透镜，材料为熔融石英。