[实用新型]单片半导体器件和半导体器件有效

专利信息
申请号: 201720869307.4 申请日: 2017-07-18
公开(公告)号: CN207367973U 公开(公告)日: 2018-05-15
发明(设计)人: J·W·霍尔;G·M·格里弗纳 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张小稳
地址: 美国亚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及单片半导体器件和半导体器件。本实用新型要解决的一个技术问题是提供改进的单片半导体器件和改进的半导体器件。该单片半导体器件包括衬底,所述衬底具有部分地延伸通过所述衬底的开口;形成在所述开口内的半导体材料;形成在所述半导体材料内的功率半导体器件;控制逻辑电路,形成在所述开口外部的所述衬底的一部分中以控制所述功率半导体器件;以及第一隔离沟槽,形成在所述半导体材料中以隔离所述功率半导体器件和所述控制逻辑电路。通过本实用新型,可以获得改进的单片半导体器件和改进的半导体器件。
搜索关键词: 单片 半导体器件
【主权项】:
1.一种单片半导体器件,包括:衬底,所述衬底具有部分地延伸通过所述衬底的开口;形成在所述开口内的半导体材料;形成在所述半导体材料内的功率半导体器件;控制逻辑电路,形成在所述开口外部的所述衬底的一部分中以控制所述功率半导体器件;以及第一隔离沟槽,形成在所述半导体材料中以隔离所述功率半导体器件和所述控制逻辑电路。
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