[实用新型]匀光装置、光源系统及投影设备有效

专利信息
申请号: 201720895176.7 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN207067644U 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 侯海雄;唐晓峰;李屹 申请(专利权)人: 深圳市光峰光电技术有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司44334 代理人: 谢志为
地址: 518055 广东省深圳市南山区西*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供一种匀光装置、光源系统及投影设备,所述匀光装置包括一封闭腔体、及设置于所述封闭腔体内的散射元件与匀光棒体,所述匀光棒体的相对两端分别为入光端和出光端,所述封闭腔体包括能够透光且与所述匀光棒体的入光端和出光端分别对应的入光侧和出光侧,所述散射元件设于所述入光端上。本实施例提供的所述匀光装置将所述散射元件与所述匀光棒体设置于所述封闭腔体内,从而可以有效地防尘,避免了所述散射元件与所述匀光棒体直接与外界接触,延长了所述匀光装置及采用所述匀光装置的光源系统及投影设备的使用寿命。
搜索关键词: 装置 光源 系统 投影设备
【主权项】:
一种匀光装置,其特征在于,所述匀光装置包括一封闭腔体、及设置于所述封闭腔体内的散射元件与匀光棒体,所述匀光棒体的相对两端分别为入光端和出光端,所述封闭腔体包括能够透光且与所述匀光棒体的入光端和出光端分别对应的入光侧和出光侧,所述散射元件设于所述封闭腔体的入光侧与所述匀光棒体的入光端之间。
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