[实用新型]一种基于高功率激光打靶的系统电磁脉冲测试装置有效
| 申请号： | 201720984121.3 | 申请日： | 2017-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN207181532U | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 易涛;江少恩;张保汉 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01R29/02 | 分类号： | G01R29/02;G01R13/00 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心11120 | 代理人： | 郭德忠,李爱英 |
| 地址： | 621054*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种基于高功率激光打靶的系统电磁脉冲测试装置，本实用新型利用激光—等离子体相互作用机制将激光能量高效率转化为X射线脉冲辐射，能够获得高亮度X射线脉冲辐射，从而利用高亮度X射线脉冲辐射研究电子设备的抗辐射能力；同时通过调节激光的能量、脉冲宽度、波形以及靶材料种类、靶型参数，去控制X射线脉冲强度、脉冲宽度和波长，实现不同能区范围X射线脉冲辐照的系统电磁脉冲响应试验。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 功率 激光 打靶 系统 电磁 脉冲 测试 装置 | ||
【主权项】：
一种基于激光打靶的系统电磁脉冲测试装置，其特征在于，包括脉冲激光打靶系统和测试系统，其中脉冲激光打靶系统和测试系统均置于真空环境中；所述脉冲激光打靶系统包括金属靶(1)和脉冲激光器(2)；所述脉冲激光器(2)发射的脉冲激光辐照在金属靶(1)靶面上；所述测试系统包括示波器(6)、测试盒(3)以及固定在测试盒(3)中的待测单元(5)，其中测试盒(3)具有气密性，且设置有与金属靶(1)靶面相对的辐照窗口(4)；待测单元(5)的产生的电磁脉冲响应传输到示波器(6)显示并存储。
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