[实用新型]一种晶片清洗机供水系统

摘要

本实用新型涉及电子技术领域，具体涉及一种晶片清洗机供水系统。本实用新型结构简单，电阻率测试仪能对水箱中的纯水进行实时的监控测量，并及时反馈纯水的电阻率是否达标，如果电阻率过低则会引发声光报警器工作，及时提醒工作人员进行相应处理，可有效防止出现不达标的纯水对晶片产生影响，影响后续生产；本实用新型设置有加热装置和支路加热器，能有效避免由于供水管道过长使得所供水的水温降低，满足不了晶片清洗的水温要求，支路加热器的设置能有效保障所供应的纯水在清洗晶片的过程中降低半导体晶片表面中的金属杂质水平和粒子水平，清洗干净，保障工作效率。

主权项

1.一种晶片清洗机供水系统，其特征在于：包括水箱，所述水箱的中下部设置有加热装置，所述加热装置电连接温控器，所述水箱的侧壁上安装有水位感应器，所述水位感应器电连接报警器，所述水箱的顶端通过供水泵连接有至少两个并行支路，所述水箱与供水泵之间的管路上安装有流量控制阀，所述供水泵与至少两个并行支路之间的管路上设置有电阻率测试仪，所述电阻率测试仪连接声光报警器，各所述支路包括依次连接的支路加热器和支路清洗机。