[实用新型]一种印染废水深度处理的装置有效
| 申请号： | 201721024337.1 | 申请日： | 2017-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN207267831U | 公开（公告）日： | 2018-04-24 |
| 发明（设计）人： | 石云峰;马丹燕;王铭剑;潘永刚;刘超 | 申请（专利权）人： | 广州市金龙峰环保设备工程有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/08 | 分类号： | C02F9/08;C02F101/30;C02F103/30 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人： | 胡辉 |
| 地址： | 510530 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种印染废水深度处理的装置。该装置为一体化反应器，反应器内分隔成依次并排的臭氧反应区、非均相催化氧化区、臭氧二次曝气区和臭氧光催化反应区；臭氧反应区的顶部设有进水口，臭氧光催化反应区的顶部设有出水口；臭氧反应区的底部设有臭氧曝气头，非均相催化氧化区设有催化剂填料装置，臭氧二次曝气区的底部设有臭氧曝气头，臭氧光催化反应区设有紫外光装置。本实用新型装置通过臭氧催化氧化以及臭氧光催化两种装置的耦合，提高臭氧利用率和臭氧氧化反应过程的效率，对污水难降解有机物的去除效果更为显著，同时还降低废水深度处理的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 印染 废水 深度 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种印染废水深度处理的装置，其特征在于：该装置为一体化反应器，反应器内分隔成依次并排的臭氧反应区、非均相催化氧化区、臭氧二次曝气区和臭氧光催化反应区；臭氧反应区的顶部设有进水口，臭氧反应区的底部与非均相催化氧化区的底部连通，非均相催化氧化区的顶部与臭氧二次曝气区的顶部连通，臭氧二次曝气区的底部与臭氧光催化反应区的底部连通，臭氧光催化反应区的顶部设有出水口；臭氧反应区的底部设有臭氧曝气头，非均相催化氧化区设有催化剂填料装置，臭氧二次曝气区的底部设有臭氧曝气头，臭氧光催化反应区设有紫外光装置。
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