[实用新型]一种硅片清洗槽有效

专利信息
申请号: 201721066178.1 申请日: 2017-08-24
公开(公告)号: CN207238646U 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 古元甲;刘晓伟;范猛;李伟;刘沛然;孙昊;孙毅;田志民;王少刚;秦焱泽;辛超;石海涛;赵朋占 申请(专利权)人: 天津市环欧半导体材料技术有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/10;B08B5/00;B08B13/00
代理公司: 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)12213 代理人: 栾志超
地址: 300384 天津市西青*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型提供一种硅片清洗槽,包括内槽体和外槽体,内槽体上设置溢流口,内槽体与外槽体通过溢流口连通,内槽体底部设置进液口,进液口连接进液管,外槽体底部设置排放口,排放口连接排放管。本实用新型的有益效果是提高了太阳能硅片的清洗质量,内槽体的底部均匀排布加热管,加热管通过PLC控制系统控制,通过PLC控制达到智能加热的目的,保持槽内的水恒温,提高清洗效率,提高清洗质量,内槽体内部设置液位阀,液位阀实时监控内槽体内的水位,同时防止水满溢出的风险,单片水耗降低166%,减少了水资源的浪费。
搜索关键词: 一种 硅片 清洗
【主权项】:
一种硅片清洗槽,其特征在于:包括内槽体和外槽体,所述内槽体上设置溢流口,所述内槽体与所述外槽体通过所述溢流口连通,所述内槽体底部设置进液口,所述进液口连接进液管,所述外槽体底部设置排放口,所述排放口连接排放管。
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