[实用新型]一种低本底屏蔽铅室有效

专利信息
申请号: 201721112405.X 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN207396751U 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 曾国强;葛良全;郭生良;赖茂林 申请(专利权)人: 成都新核泰科科技有限公司
主分类号: G01T7/00 分类号: G01T7/00;G01T1/167
代理公司: 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 代理人: 梁菊兰
地址: 610052 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及铅室屏蔽技术领域,具体涉及一种低本底屏蔽铅室,包括屏蔽室,屏蔽室内设置有探测器,屏蔽室上端盖设有顶盖,屏蔽室外侧壁上设置有放射源校准装置;放射源校准装置包括壳体,以及设置在壳体中的遮挡块和放射源,遮挡块与壳体滑动连接,且遮挡块开设有横向贯穿遮挡块的第一通孔,放射源正对探测器,屏蔽室正对探测器的位置开设有横向贯穿屏蔽室侧壁的第二通孔。在平时测量中,放射源被遮挡块屏蔽隔离,不影响正常测量;需要校准时,移动遮挡块,使得遮挡块的第一通孔与屏蔽室的第二通孔连通,使探测器能够探测到放射源,通过探测器探测得到的数据来判断探测系统是否稳定,从而判断之前测量数据的有效性,提高监测系统的可靠性。
搜索关键词: 一种 本底 屏蔽
【主权项】:
1.一种低本底屏蔽铅室,其特征在于,包括屏蔽室,屏蔽室内设置有探测器,屏蔽室上端盖设有顶盖,屏蔽室外侧壁上设置有放射源校准装置;放射源校准装置包括壳体,以及设置在壳体中的遮挡块和放射源,遮挡块与壳体滑动连接,且遮挡块开设有横向贯穿遮挡块的第一通孔,放射源正对探测器,屏蔽室正对探测器的位置开设有横向贯穿屏蔽室侧壁的第二通孔。
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