[实用新型]壳体组件和干蚀刻机有效
申请号: | 201721140203.6 | 申请日: | 2017-09-06 |
公开(公告)号: | CN207338297U | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
发明(设计)人: | 刘志豪;杨建;刘亚兵 | 申请(专利权)人: | 深圳市柔宇科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张润 |
地址: | 518052 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种壳体组件和干蚀刻机。壳体组件用于干蚀刻机,壳体组件包括壳体和挡片,壳体形成有蚀刻腔室并包括有用于观察蚀刻腔室的透明观察区,挡片靠近透明观察区设置在壳体的内表面上,挡片可以在第一位置和第二位置之间移动,当位于第一位置时挡片遮挡透明观察区,当位于第二位置时至少部分透明观察区自挡片外露出。本实用新型的干蚀刻机包括壳体组件和设置在壳体组件内的蚀刻装置。本实用新型的壳体组件和干蚀刻机在透明观察区对应设置挡片,在不观察蚀刻腔室内状况时隔离透明观察区,使得蚀刻工件时透明观察区表层不会因为暴露在蚀刻气体中而受到破坏。 | ||
搜索关键词: | 壳体 组件 蚀刻 | ||
【主权项】:
1.一种壳体组件,用于干蚀刻机,其特征在于,所述壳体组件包括:壳体,所述壳体形成有蚀刻腔室并包括有用于观察所述蚀刻腔室的透明观察区;和靠近所述透明观察区设置在所述壳体的内表面上的挡片,所述挡片可以在第一位置和第二位置之间移动,当位于所述第一位置时所述挡片遮挡所述透明观察区,当位于所述第二位置时,至少部分所述透明观察区自所述挡片外露出。
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