[实用新型]中子捕获治疗系统

摘要

本实用新型提供一种中子捕获治疗系统，可以避免或降低在屏蔽壁或地板由组件或元件穿过的地方造成的中子及其他辐射线的泄露。本实用新型的中子捕获治疗系统，包括加速器、射束传输部和第一中子束生成部，加速器对带电粒子进行加速产生带电粒子束，射束传输部将加速器产生的带电粒子束传输至第一中子束生成部，第一中子束生成部产生治疗用中子束，硼中子捕获治疗系统还包括带电粒子束生成室和第一照射室，带电粒子束生成室容纳加速器和至少部分射束传输部，患者在第一照射室中进行中子束照射的治疗，第一中子束生成部的至少一部分埋入于第一照射室和带电粒子束生成室的第一分隔壁，在第一分隔壁朝向射束传输方向上游的一侧由第一中子束生成部穿过的部位设置第一屏蔽体。

主权项

1.一种中子捕获治疗系统，包括加速器、射束传输部和第一中子束生成部，所述加速器对带电粒子进行加速产生带电粒子束，所述射束传输部将所述加速器产生的带电粒子束传输至所述第一中子束生成部，所述第一中子束生成部产生治疗用中子束，其特征在于，所述中子捕获治疗系统还包括带电粒子束生成室和第一照射室，所述带电粒子束生成室容纳所述加速器和至少部分所述射束传输部，患者在所述第一照射室中进行中子束照射的治疗，所述第一中子束生成部的至少一部分埋入于所述第一照射室和所述带电粒子束生成室的第一分隔壁，在所述第一分隔壁朝向射束传输方向上游的一侧由所述第一中子束生成部穿过的部位设置第一屏蔽体。