[实用新型]一种自动偏光片表面等离子处理设备

摘要

本实用新型涉及自动偏光片表面等离子处理设备，包括IPA清洗机构、纯水清洗机构、清洗平台、中转搬送机构、等离子清洗平台和等离子清洗机构，IPA清洗机构和纯水清洗机构均与清洗平台配合设置，清洗平台上吸附待清洗的LCD基板，中转搬送机构置于清洗平台和等离子清洗平台之间，等离子清洗机构与等离子清洗平台配合设置，清洗等离子清洗平台上吸附待清洗的LCD基板。本实用新型采用IPA清洗、纯水清洗、等离子清洗三种方式，清洗彻底，自动化程度高，通过X、Y、Z三个方向控制各部件的位移，可实现多品种自由切换，提高生产效率。其中转搬送机构方便转移基板，清洗机构含有防跑偏装置及检测清洗带回收距离器，保证有效清洗。

主权项

一种自动偏光片表面等离子处理设备，用于清洗LCD基板和触摸控制机构(9)，其特征在于：包括IPA清洗机构(1)、纯水清洗机构(2)、清洗平台(3)、中转搬送机构(4)、等离子清洗平台(5)和等离子清洗机构(6)，所述IPA清洗机构(1)和纯水清洗机构(2)均与清洗平台(3)配合设置，清洗平台(3)上吸附待清洗的LCD基板，所述中转搬送机构(4)置于清洗平台(3)和等离子清洗平台(5)之间，用于将LCD基板在清洗平台(3)和等离子清洗平台(5)之间转移，所述等离子清洗机构(6)与等离子清洗平台(5)配合设置，清洗等离子清洗平台(5)上吸附待清洗的LCD基板。