[实用新型]一种测微分析天平

摘要

本实用新型公开了一种测微分析天平。它包括压力触控组件，光波干涉系统，单片机系统，天平外壳组件；所述压力触控组件包括上承板、下板，竖直设置于上承板和下板之间的弹性元件，上承板上远离弹性元件的一端设有托盘架及托盘，在上承板的弹性元件与托盘架之间且偏向弹性元件的位置设有刀口槽，下板上正对刀口槽的位置设有平衡架，平衡架的上端设有与刀口槽相适配的刀口，所述刀口插设在刀口槽内；所述光波干涉系统包括静片、动片、静脚、动脚、光源、半透半反镜、摄像头；所述静片固定在下板上，动片的一端固定在静片上形成静脚，动片的另一端通过吊件与上承板上托盘架所在的位置相连接并形成动脚；所述动片的上部设有摄像头，以及与摄像头互成90度设置的光源，在摄像头与光源之间设有半透半反镜，所述半透半反镜将光源所投射的光线反射至动片与静片上，再由摄像头拍下动片与静片上反射回来光的干涉条纹图像信息；所述单片机系统包括相互电连接的单片机模块、信息显示模块和键盘输入模块，其通过单片机模块进行接收信息、处理信息和发送信息，和通过显示模块和键盘输入模块实现人机信息交流，所述摄像头与单片机模块相连接。

主权项

一种测微分析天平，其特征在于：所述天平包括压力触控组件，光波干涉系统，单片机系统，天平外壳组件；所述压力触控组件包括上承板（4）、下板（3），竖直设置于上承板（4）和下板（3）之间的弹性元件（5），上承板（4）上远离弹性元件（5）的一端设有托盘架（11）及托盘（14），在上承板（4）的弹性元件（5）与托盘架（11）之间且偏向弹性元件的位置设有刀口槽（8），下板（3）上正对刀口槽（8）的位置设有平衡架（6），平衡架（6）的上端设有与刀口槽（8）相适配的刀口（7），所述刀口（7）插设在刀口槽（8)内；所述光波干涉系统包括静片（15）、动片（16）、静脚（17）、动脚（18）、光源（19）、半透半反镜（10）、摄像头（20）；所述静片固定在下板上，动片的一端固定在静片上形成静脚，动片的另一端通过吊件（23）与上承板（4）上托盘架（11）所在的位置相连接并形成动脚（18）；所述动片的上部设有摄像头，以及与摄像头互成90度设置的光源，在摄像头与光源之间设有半透半反镜，所述半透半反镜将光源所投射的光线反射至动片与静片上，再由摄像头拍下动片与静片上反射回来光的干涉条纹图像信息；所述单片机系统包括相互连接的单片机模块、信息显示模块和键盘输入模块，其通过单片机模块进行接收信息、处理信息和发送信息，通过显示模块和键盘输入模块实现人机信息交流，所述摄像头与单片机模块相连接，接收摄像头传输的图像信息，所述单片机模块根据接收图像信息及键盘输入模块的信号或指令进行数据处理后，传输给信息显示模块显示出来。