[实用新型]一种新型提高电流分布均匀的电镀槽结构有效

专利信息
申请号: 201721173884.6 申请日: 2017-09-14
公开(公告)号: CN207362363U 公开(公告)日: 2018-05-15
发明(设计)人: 薛志刚;姚远军;花恒武 申请(专利权)人: 孟州市锐鑫金属表面处理有限公司
主分类号: C25D21/10 分类号: C25D21/10;C25D21/02
代理公司: 郑州浩德知识产权代理事务所(普通合伙) 41130 代理人: 王国旭
地址: 454000 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 本新型涉一种新型提高电流分布均匀的电镀槽结构,包括槽体、定位架、导向滑轨、升降驱动机构及导流板,定位架嵌于槽体的内侧面中,导向滑轨槽体轴线方向均布在定位架侧表面上,导向滑轨包括滑轨及滑块,升降驱动机构安装在定位架上,导流板通过导向滑轨安装在定位架上,导流板为矩形板状结构,导流板上均布若干透孔。本新型一方面可根据使用需要,对电镀槽内电解液进行灵活的搅拌驱动,提高电解液离子分布均匀性,另一方面可对电镀槽内电流密度分布区间进行灵活调整,使得电镀槽内电流密度分布均匀。
搜索关键词: 一种 新型 提高 电流 分布 均匀 电镀 结构
【主权项】:
1.一种新型提高电流分布均匀的电镀槽结构,其特征在于:所述的新型提高电流分布均匀的电镀槽结构包括槽体、定位架、导向滑轨、升降驱动机构及导流板,其中所述的定位架为与槽体同轴分布的框架结构,并嵌于槽体的内侧面中,所述的导向滑轨至少两个,沿槽体轴线方向均布在定位架侧表面上,并与槽体轴线垂直分布,所述的导向滑轨包括滑轨及滑块,其中所述的滑轨共两个,并以槽体轴线对称分布在槽体两侧位置,所述的滑块至少四个,且每条滑轨上均设至少两个滑块,且两条滑轨上的滑块以槽体轴线对称分布,所述的升降驱动机构安装在定位架上,并分别与各滑块相互连接,所述的导流板至少两条,通过导向滑轨安装在定位架上,且各导流板均与槽体轴线平行分布,并沿着槽体自下而上均匀分布,所述的导流板为矩形板状结构,侧表面与滑块相互连接,所述的导流板上均布若干透孔,且透孔轴线与槽体底部垂直分布,所述透孔孔径为1—30毫米,且透孔总面积为导流板总面积的30%—80%。
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