[实用新型]一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机有效
申请号: | 201721204610.9 | 申请日: | 2017-09-18 |
公开(公告)号: | CN207301622U | 公开(公告)日: | 2018-05-01 |
发明(设计)人: | 孙雷 | 申请(专利权)人: | 北京德瑞工贸有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100083 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种基于Micro‑LED无掩模投影扫描式紫外曝光机,包括Micro‑LED、计算机及控制软件、放大或缩小镜头、待曝光工件表面和工作台。为使Micro‑LED像素尺寸符合实际曝光需求,本实用新型使用放大或缩小镜头用于放大或缩小曝光像素的尺寸。再用计算机及控制软件控制Micro‑LED每个或若干个刷新周期刷新下一位置的图形,使各图形连续拼接成所需要的曝光图形。本实用新型一种基于Micro‑LED无掩模投影扫描式紫外曝光机,无复杂的光机损耗,可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。并且结构小巧,易于和机器人相结合接入自动化流水线。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 micro led 无掩模 投影 扫描 紫外 曝光 | ||
【主权项】:
一种基于Micro‑LED无掩模投影扫描式紫外曝光机,其特征在于,包括Micro‑LED、计算机及控制软件、放大或缩小镜头、待曝光工件表面和工作台,其中计算机及控制软件的图形数据向Micro‑LED传输,Micro‑LED通过放大或缩小镜头成像到放置在工作台上的待曝光工件表面;由于Micro‑LED发出的光通过放大或缩小镜头作用到待曝光工件表面,没有经过复杂光学系统的损耗,因此可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。
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