[实用新型]一种数控抛光用三角形抛光模有效
| 申请号： | 201721228038.X | 申请日： | 2017-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN208051643U | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 廖品生;曾承远;毛卫平 | 申请（专利权）人： | 东莞市兰光光学科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 523766 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于光学元件加工技术领域，尤其涉及一种数控抛光用三角形抛光模，其特征是包括：抛光模基体、缓冲层和抛光层；其中，所述抛光模基体上端粘附所述缓冲层，所述缓冲层上面粘结抛光层；所述抛光模基体和所述缓冲层为圆形，所述抛光层为三角形；所述抛光模基体为紫铜，所述缓冲层为沥青，所述抛光层为带背胶的抛光阻尼布。本实用新型采用圆形抛光模基体、圆形缓冲层和三角形抛光层的结构，构建的去除函数边缘去除效率低，中心去除效率高，解决大口径光学元件数控抛光的边缘效应，减少中频误差，提高加工精度和效率。 | ||
| 搜索关键词： | 缓冲层 抛光模 抛光层 数控抛光 抛光 去除 大口径光学元件 光学元件加工 本实用新型 边缘去除 边缘效应 中频误差 紫铜 上端 带背 构建 粘附 粘结 沥青 加工 | ||
【主权项】：
1.一种数控抛光用三角形抛光模，包括：抛光模基体、缓冲层和抛光层；其中，所述抛光模基体上端粘附所述缓冲层，所述缓冲层上面粘结抛光层；所述抛光模基体和所述缓冲层为圆形，所述抛光层为三角形；所述抛光模基体为紫铜，所述缓冲层为沥青，所述抛光层为带背胶的抛光阻尼布。
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