[实用新型]用于电镀溶液中银浓度的持续监控装置有效
| 申请号： | 201721234434.3 | 申请日： | 2017-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN207672149U | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 王芳;王兴平 | 申请（专利权）人： | 确信乐思化学（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C25D21/14 | 分类号： | C25D21/14;C25D21/02 |
| 代理公司： | 上海天翔知识产权代理有限公司 31224 | 代理人： | 刘粉宝 |
| 地址： | 201417 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于电镀溶液中银浓度的持续监控装置，所述持续监控装置包括测定装置、补加装置和控制器，其中所述测定装置包括镀液腔、冷却腔以及探针，所述镀液腔和所述冷却腔之间通过进液管流体连通，所述冷却腔和探针之间通过输液管流体连通，所述探针与镀液腔通过镀液回流及排气管流体连通；所述补加装置包括银离子储蓄器和用于银离子储蓄器和镀液腔之间流体连通的加液管。本实用新型通过最大程度减少镀液变化来加强统计过程控制，并且节省了人工分析所需时间。 | ||
| 搜索关键词： | 镀液 流体连通 监控装置 冷却腔 探针 本实用新型 补加装置 测定装置 电镀溶液 储蓄器 银离子 统计过程控制 人工分析 控制器 加液管 进液管 排气管 输液管 | ||
【主权项】：
1.用于电镀溶液中银浓度的持续监控装置，其特征在于，所述持续监控装置包括测定装置、补加装置和控制器，其中所述测定装置包括镀液腔、冷却腔和探针，所述镀液腔和所述冷却腔之间通过进液管流体连通用来将镀液腔中的镀液抽取到冷却腔中进行冷却，所述冷却腔和探针之间通过输液管流体连通用于将冷却腔中的镀液抽取到探针中进行浓度检测，所述探针与镀液腔通过镀液回流及排气管流体连通用来待浓度检测完毕后将探针中的镀液回流到镀液腔中；所述补加装置包括银离子储蓄器和用于银离子储蓄器和镀液腔之间流体连通的加液管，用于将银离子储蓄器中的银离子补充到镀液腔中。
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