[实用新型]一种TEOS炉管机台有效
| 申请号： | 201721250652.6 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN207596956U | 公开（公告）日： | 2018-07-10 |
| 发明（设计）人： | 尹广丰 | 申请（专利权）人： | 中航（重庆）微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 401331 重庆*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种TEOS炉管机台，所述TEOS炉管机台包括反应腔室；安装于所述反应腔室下方、且与所述反应腔室贯通的转换器出口；及安装于所述转换器出口内的第一保护件。通过本实用新型提供的TEOS炉管机台，解决了现有TEOS炉管机台存在清理维护耗时长、且容易造成TEOS炉管机台损坏的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 炉管机台 反应腔室 本实用新型 转换器出口 保护件 耗时 贯通 维护 | ||
【主权项】：
1.一种TEOS炉管机台，其特征在于，所述TEOS炉管机台包括：反应腔室；安装于所述反应腔室下方、且与所述反应腔室贯通的转换器出口；及安装于所述转换器出口内的第一保护件；其中，所述第一保护件包括第一保护本体，及与所述第一保护本体连接的第二保护本体，其中，所述第一保护本体为圆台型，所述第二保护本体为圆环型。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
