[实用新型]新型涂胶显影设备涂敷单元

摘要

本实用新型公开了一种新型涂胶显影设备涂敷单元，其包括：下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上盖(1)和内盖(2)，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；吸盘(3)，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔；所述内盖上对称割开有2条开口，使得所述背清喷头可对基片背部进行清洁；所述内盖的开口处设置有调节机构(R)。本实用新型的有益效果是：内盖所设背清喷头配合的开口可以根据需要进行尺寸调节，及时在内盖开口加工尺寸有误差的情况下，可以通过调整调节结构也能够较好的实现背清喷头与开口的对位。 1

主权项

1.一种新型涂胶显影设备涂敷单元，其包括：

下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；

上盖(1)和内盖(2)，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；

吸盘(3)，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；

铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔；

所述内盖上对称割开有2条开口，使得所述背清喷头可对基片背部进行清洁；

其特征在于，所述内盖的开口处设置有调节结构(R)，所述调节结构包括：

可调整开口尺寸的调节板(R1)，所述开口侧壁设置有可供调节板滑入或者滑出的滑动通道(R2)，所述内盖的上表面设置有沿着滑动通道布置的滑杆滑动槽(R3)，所述调节板安装有位于滑杆滑动槽的滑杆(R4)。

2.根据权利要求1所述的新型涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于，所述调节结构对称安装于所述开口处。