[实用新型]一种大功率半导体高频激光器封装用的硅热沉有效

专利信息
申请号: 201721304279.8 申请日: 2017-10-11
公开(公告)号: CN207442181U 公开(公告)日: 2018-06-01
发明(设计)人: 徐建卫 申请(专利权)人: 上海矽安光电科技有限公司
主分类号: H01S5/024 分类号: H01S5/024
代理公司: 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 代理人: 周高
地址: 200233 上海市徐汇*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种大功率半导体高频激光器封装用的硅热沉,涉及光电子领域,其中硅热沉包括一硅片,所述硅片的正、反面均抛光,硅片的正面上方由下往上依次设有第一二氧化硅层、第一氮化硅层,硅片的反面下方由上往下依次设有第二二氧化硅层、第二氮化硅层,所述第一氮化硅层上制作有金属电路,所述第二氮化硅层上制作有背面金锡层,该金属电路与背面金锡层之间由通孔电路连接,本实用新型的目的在于,提出一种大功率半导体高频激光器封装用的硅热沉,通过改变硅热沉结构,使得本实用新型具有热导率相差不大(硅热导率:148W/m/℃)而成本更加低廉,工艺周期更短,特别是能满足高频激光器的需求。
搜索关键词: 硅热沉 高频激光器 氮化硅层 硅片 大功率半导体 封装 本实用新型 二氧化硅层 金属电路 热导率 锡层 背面 光电子领域 电路连接 工艺周期 抛光 通孔 制作
【主权项】:
1.一种大功率半导体高频激光器封装用的硅热沉,其特征在于,包括一硅片,所述硅片的正、反面均抛光,硅片的正面上方由下往上依次设有第一二氧化硅层、第一氮化硅层,硅片的反面下方由上往下依次设有第二二氧化硅层、第二氮化硅层,所述第一氮化硅层上制作有金属电路,所述第二氮化硅层上制作有背面金锡层,该金属电路与背面金锡层之间由通孔电路连接。
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