[实用新型]一种磁材镀膜设备有效
| 申请号： | 201721312061.7 | 申请日： | 2017-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN207376113U | 公开（公告）日： | 2018-05-18 |
| 发明（设计）人： | 朱刚毅;朱刚劲;黄庆梅 | 申请（专利权）人： | 广东腾胜真空技术工程有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 官国鹏 |
| 地址： | 526060 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种磁材镀膜设备，包括托板，依次连接且均设有滚筒传送机构的进片室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后过渡室、出片室；连通的前缓冲室、镀膜室、后缓冲室形成相通的真空室；用于装载磁材的托板放置在滚筒传送机构上，镀膜室内设有多个磁控靶，磁控靶位于磁材的上方；出片室处设有氮气循环冷却装置，氮气循环冷却装置的出口与出片室相通，氮气循环冷却装置的入口与出片室相通，氮气循环冷却装置的入口和氮气循环冷却装置的出口沿着托板的传输路径的前进方向依次布置。本实用新型的磁材镀膜设备，成本低、镀膜质量好，属于磁材镀膜的技术领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
1.一种磁材镀膜设备，其特征在于：包括托板，依次连接且均设有滚筒传送机构的进片室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后过渡室、出片室；进片室的入口处设有真空锁，进片室和前缓冲室之间设有真空锁，后缓冲室和后过渡室之间设有真空锁，后过渡室和出片室之间设有真空锁，出片室的出口处设有真空锁；连通的前缓冲室、镀膜室、后缓冲室形成相通的真空室；用于装载磁材的托板放置在滚筒传送机构上，镀膜室内设有多个磁控靶，磁控靶位于磁材的上方；出片室处设有氮气循环冷却装置，氮气循环冷却装置的出口与出片室相通，氮气循环冷却装置的入口与出片室相通，氮气循环冷却装置的入口和氮气循环冷却装置的出口沿着托板的传输路径的前进方向依次布置。
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