[实用新型]一种蒸镀设备

摘要

本实用新型公开了一种蒸镀设备，包括蒸发腔室，用于蒸镀基片，所述基片置于所述蒸发腔室内，所述蒸发腔室内还设有磁性掩模版、磁性压合装置、基片载体、坩埚和多扎线圈。磁性压合装置安置在蒸发腔室内基片上方，用以压合基片和磁性掩模版，并产生一个方向固定，大小不变的磁场，对磁性掩模版进行吸附，阻止掩模版因自身重量等原因的下垂；蒸发腔室内竖直向螺旋缠绕有多扎线圈，通正向电流时，能够产生与磁性压合装置相同的磁场，当具有磁矩的自由分子蒸发上升时，线圈磁场和磁性压合装置产生的双重磁场对其磁矩方向进行调控定向，使分子以相同的方向落于基片，改善成膜，提高器件性能与寿命。

主权项

1.一种蒸镀设备，包括蒸发腔室，用于蒸镀基片(1)，所述基片(1)置于所述蒸发腔室内，其特征在于，所述蒸发腔室内还设有：磁性掩模版(2)，用于确定所述基片(1)蒸镀的图形；磁性压合装置(3)，用于压合所述基片(1)和磁性掩模版(2)，并对所述磁性掩模版(2)进行吸附以防止其变形；基片载体(4)，其为非磁性载体，用于承载待蒸镀的所述基片(1)和磁性掩模版(2)；坩埚(6)，位于所述蒸发腔室内，其与所述磁性压合装置(3)分别设置于所述基片(1)的两侧，用于提供热量，加热蒸发有机材料。