[实用新型]内釉施釉结构有效

专利信息
申请号: 201721319585.9 申请日: 2017-10-13
公开(公告)号: CN207271498U 公开(公告)日: 2018-04-27
发明(设计)人: 肖书明;周文军 申请(专利权)人: 合江县华艺陶瓷制品有限公司
主分类号: B05B13/06 分类号: B05B13/06
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 齐海迪
地址: 646000 四川省泸州*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及施釉结构领域,旨在解决现有技术中的内釉施釉结构存在结构复杂,不方便实现自动化操作的问题,提供一种内釉施釉结构,其包括供釉系统、配合嘴、回位件。供釉系统设置有若干朝上开口的出釉管,供釉系统能够从出釉管的出口出釉。配合嘴具有贯通其上下端面的通口。出釉管的出口从下方对应于通口。配合嘴弹性支撑于回位件上端,并能够在外力的作用下克服回位件的回位力向下运动至使配合嘴的通口的下端密封接通出釉管的出口,使出釉管的出口出釉只能从通口的上端通出。本实用新型的有益效果是能够方便地实现上内釉,且容易实现上内釉的自动化、釉水利用率高。
搜索关键词: 内釉施釉 结构
【主权项】:
一种内釉施釉结构,其特征在于:所述内釉施釉结构包括供釉系统、配合嘴、回位件;所述供釉系统设置有若干朝上开口的出釉管,所述供釉系统能够从所述出釉管的出口出釉;所述配合嘴具有贯通其上下端面的通口;所述出釉管的出口从下方对应于所述通口;所述配合嘴弹性支撑于所述回位件上端,并能够在外力的作用下克服所述回位件的回位力向下运动至使所述配合嘴的通口的下端密封接通所述出釉管的出口,使所述出釉管的出口出釉只能从所述通口的上端通出。
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