[实用新型]一种真空回转煅烧窑

摘要

本实用新型公开了一种真空回转煅烧窑，设置于底架上，包括柱形卧式真空窑体，所述真空窑体的两端转动连接有与其连通的动筒，所述动筒套接有静筒，所述静筒与所述动筒的套接处设有端面密封结构，所述底架的支撑平台上设有支撑所述静筒的滚动组件，所述端面密封结构包括静环与动环，所述静环与所述动环分别套设在所述静筒与所述动筒的端部上；两个耐磨环，两个所述耐磨环结构相同、相对设置且夹持于所述静环与所述动环之间。本实用新型的真空回转煅烧窑通过两个耐磨环的相互挤压，使得动筒与静筒连接处的端面密封效果较好，能够使真空回转煅烧窑满足连续运转的需求。 1

主权项

1.一种真空回转煅烧窑，设置于底架上，其特征在于，包括柱形卧式真空窑体，所述真空窑体的两端转动连接有与其连通的动筒，所述动筒套接有静筒，所述静筒与所述动筒的套接处设有端面密封结构，所述底架的支撑平台上设有支撑所述静筒的滚动组件，其中，所述端面密封结构包括：

‑静环与动环，所述静环与所述动环分别套设在所述静筒与所述动筒的端部上；

‑两个耐磨环，两个所述耐磨环结构相同、相对设置且夹持于所述静环与所述动环之间。

2.根据权利要求1所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，所述静筒与所述动筒的端部上均周向均匀设有多个抵持相应的所述静环与所述动环的筋板。

3.根据权利要求1所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，所述耐磨环的两端分别为第一环部和第二环部，且所述第一环部与所述第二环部构成阶梯轴套结构；所述静环及所述动环的两端分别为第一支撑环和第二支撑环，且所述第一支撑环与所述第二支撑环构成阶梯轴套结构，所述第一支撑环与所述第二支撑环之间的台阶支撑所述第一环部和所述第二环部中直径较大的一个。

4.根据权利要求3所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，所述第一环部和所述第二环部中直径较大的一个的直径小于所述第一支撑环和所述第二支撑环中直径较大的一个的直径，且所述第一环部与所述第二环部之间的台阶上设有抵压所述耐磨环的法兰，所述法兰通过螺栓锁紧在所述第一支撑环和所述第二支撑环中直径较大的一个上。

5.根据权利要求1所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，所述静环上连接有遮盖所述静环、两个所述耐磨环及所述动环的防护板。

6.根据权利要求1所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，其中一个所述静筒为进料筒、另一个所述静筒为出料筒。

7.根据权利要求1所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，所述滚动组件包括与所述静筒连接的支架、与所述支架连接的支座、与所述支座底部连接的多个滑轮，所述支撑平台上设有与各所述滑轮配合的滑轨。

8.根据权利要求1所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，所述底架上设有支撑各所述动筒的托轮，各所述动筒上均套设有与所述托轮接触的轮带。

9.根据权利要求1所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，所述动筒上套设有滚圈，所述底架上设有与所述滚圈传动连接的电机。