[实用新型]一种新型P-GaN薄膜结构的LED芯片有效
申请号: | 201721381870.3 | 申请日: | 2017-10-24 |
公开(公告)号: | CN207338421U | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
发明(设计)人: | 杨为家;吴质朴;何畏;陈强 | 申请(专利权)人: | 江门市奥伦德光电有限公司;五邑大学 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/10;H01L33/32;H01L33/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 梁嘉琦 |
地址: | 529000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种新型P‑GaN薄膜结构的LED芯片,包括衬底、缓冲层、n型半导体层、量子阱和p型半导体层,所述衬底上依次设置缓冲层、n型半导体层、量子阱和p型半导体层,其中p型半导体层包含由Ag纳米粒子形成的Ag金属膜。通过在p型半导体层中加入Ag金属膜,能够促进横向过生长,诱导位错湮灭,从而提高P‑GaN薄膜的质量,同时能够提高LED的光效。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 gan 薄膜 结构 led 芯片 | ||
【主权项】:
1.一种新型P-GaN薄膜结构的LED芯片,其特征在于:包括衬底、n型半导体层、量子阱和p型半导体层,所述衬底上依次设置n型半导体层、量子阱和p型半导体层;所述p型半导体层包括底层P-GaN层、顶层P-GaN层和由Ag纳米粒子形成的Ag金属膜,所述Ag金属膜位于底层P-GaN层和顶层P-GaN层之间,所述底层P-GaN层设置在量子阱上。
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