[实用新型]一种医药工程领域的药物研磨设备有效
申请号: | 201721384052.9 | 申请日: | 2017-10-25 |
公开(公告)号: | CN208004040U | 公开(公告)日: | 2018-10-26 |
发明(设计)人: | 乔金贺 | 申请(专利权)人: | 乔金贺 |
主分类号: | B02C7/08 | 分类号: | B02C7/08;B02C7/11;B02C7/16 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 028213 内蒙古自治区*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | 一种医药工程领域的药物研磨设备,所述医药工程领域的药物研磨设备包括底板、位于所述底板上方的支架装置、设置于所述支架装置上端的集中装置、位于所述集中装置下方的研磨装置、位于所述研磨装置下方的升降装置、位于所述升降装置左侧的驱动装置。本实用新型医药工程领域的药物研磨设备能够实现对药物的充分研磨,研磨效率高,并且效果显著,可以将药物研磨的粒径大一统一,便于药效的充分发挥,同时人工劳动强度小,操作简单。 | ||
搜索关键词: | 研磨设备 医药工程 底板 集中装置 升降装置 研磨装置 支架装置 研磨 本实用新型 驱动装置 研磨效率 上端 粒径 | ||
【主权项】:
1.一种医药工程领域的药物研磨设备,其特征在于:所述医药工程领域的药物研磨设备包括底板、位于所述底板上方的支架装置、设置于所述支架装置上端的集中装置、位于所述集中装置下方的研磨装置、位于所述研磨装置下方的升降装置、位于所述升降装置左侧的驱动装置,所述底板上设有位于其下方的若干万向轮、位于其上方的定位架、设置于所述定位架上的第一光滑块,所述支架装置包括第一支撑杆、位于所述第一支撑杆上方的第一横杆、位于所述第一横杆上方的第二支撑杆、设置于所述第二支撑杆上方的第二横杆、设置于所述第二横杆上的弯曲杆、设置于所述第二支撑杆上的定位板,所述集中装置包括集中框、收容于所述集中框内的集中块、设置于所述集中框外侧的振动器,所述研磨装置包括研磨板、位于所述研磨板上方的壳体、位于所述研磨板下方的定位框、转轴、位于所述转轴下方的电机、位于所述研磨板下方的顶靠框、位于所述顶靠框下方的支撑框,所述升降装置包括升降板、位于所述升降板下方的定位杆、位于所述定位杆下方的第一弹簧、位于所述定位杆左右两侧的第二弹簧、位于所述升降板右侧的第三弹簧,所述驱动装置包括第三支撑杆、位于所述第三支撑杆上方的第三横杆、设置于所述第三横杆上的电缸、位于所述电缸上方的推动杆、定位块、设置于所述推动杆上端的推动架。
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