[实用新型]一种用于材料磁性测量系统中的样品腔

摘要

本实用新型涉及高压物性及薄膜材料特性测量领域，一种用于材料磁性测量系统中的样品腔，包括由顶砧外筒、上支撑台、上顶砧、套筒、垫圈、样品、下顶砧、下支撑台、气体压力单元、底座、压紧螺丝、导气管、光纤组成的样品腔、金线、电极、垫圈架、圆柱凸台、限位螺丝、调平台，气体压力单元随着其内部气体压强的改变而在竖直方向膨胀或收缩，底座下部直接与材料磁性测量系统中的冷源相接触，导气管贯穿顶砧外筒上表面并连通气体压力单元，样品放入样品腔时下顶砧、下支撑台、气体压力单元、底座、压紧螺丝能整体与顶砧外筒分离；调平台轴向有贯穿孔，圆柱凸台位于该孔内部、且其顶部有直径500微米的圆柱体凸出部，限位螺丝调节圆柱凸台位置。

主权项

一种用于材料磁性测量系统中的样品腔，主要包括由顶砧外筒(1)、上支撑台(2)、上顶砧(3)、套筒(4)、垫圈(5)、样品(6)、下顶砧(7)、下支撑台(8)、气体压力单元(9)、底座(10)、压紧螺丝(11)、导气管(12)、光纤(13)组成的样品腔、金线(14)、电极(15)、垫圈架(16)、圆柱凸台(17)、限位螺丝(18)、调平台(19)，顶砧外筒(1)为下方开口的圆柱形筒、且其开口能够用底座(10)密封，上支撑台(2)固定于顶砧外筒(1)内的上表面，上顶砧(3)固定于上支撑台(2)下表面，上顶砧(3)的压力接触面上具有厚度100nm的金电极；套筒(4)为一圆柱体的侧面，且其上端固定于上支撑台(2)的下面、下端套于下支撑台(8)外围，下支撑台(8)的下面连接有气体压力单元(9)，下顶砧(7)固定于下支撑台(8)上表面，下支撑台(8)能够沿套筒(4)轴线方向移动，气体压力单元(9)与底座(10)之间的距离能够通过压紧螺丝(11)调节；垫圈架(16)为环状结构、其中心具有直径1毫米的通孔，固定于调平台(19)上方，在将样品(6)与垫圈(5)上的电极(15)连接时，垫圈(5)置于垫圈架(16)内；电极(15)为边长1毫米的正方形且共有四块，电极(15)以垫圈(5)中心对称分布地沉积在垫圈(5)的上表面，样品(6)为边长400微米的正方形、其四个角通过金线(14)分别与四个电极(15)相连接，金线(14)与样品(6)及电极(15)均通过银胶固定，其特征是：气体压力单元(9)能够随着其内部气体压强的改变而在竖直方向膨胀或收缩，底座(10)下部直接与材料磁性测量系统中的冷源相接触，导气管(12)贯穿顶砧外筒(1)上表面并连通气体压力单元(9)，将样品(6)放入样品腔时，所述下顶砧(7)、下支撑台(8)、气体压力单元(9)、底座(10)、压紧螺丝(11)能够整体与顶砧外筒(1)分离；调平台(19)为圆台结构，沿其轴线方向具有贯穿的孔，圆柱凸台(17)位于该孔内部、且其顶部具有直径500微米的圆柱体结构的凸出部，能够通过限位螺丝(18)精密调节圆柱凸台(17)位置。