[实用新型]一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构有效
| 申请号： | 201721425700.0 | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN207347651U | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 刘宗帅;刘宗贺;陆益;李超;顾晶伟;何孝鑫;黄元凯 | 申请（专利权）人： | 安徽富芯微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/30;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 胡剑辉 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构，包括机构，机构内设有腔体，腔体内设有两L型连接轴和修正板，L型连接轴一端贯穿机构底部与气缸连接，另一端与修正板连接，修正板的下方设有坩埚；机构通过转轴安装有行星架，行星架与镀锅连接；镀锅在镀锅旋转轨道内进行滑动；镀锅旋转轨道上连接有四个升降轴，机构的侧壁安装用于固定镀锅旋转轨道的固定架。本实用新型通过修正板阻挡气态金属源对镀锅中心位置过度蒸发，并利用升降轴调整镀锅轨道高度，保证镀锅的内圈和外圈接收金属源气态的能量一致，进而使得硅片表面的镀膜均匀性好、致密性强，减少表面的粗糙度，减少硅片返工次数，同时提高了硅片的性能，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 提高 金属 镀膜 均匀 机构 | ||
【主权项】：
1.一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构，其特征在于：包括机构(1)，机构(1)内设有腔体，腔体内设有两L型连接轴(2)和修正板(3)，L型连接轴(2)一端贯穿机构(1)底部与气缸(5)连接，另一端与修正板(3)连接，修正板(3)的下方设有坩埚(4)；机构(1)通过转轴安装有行星架(6)，行星架(6)与镀锅(7)连接；所述镀锅(7)在镀锅旋转轨道(9)内进行滑动；镀锅旋转轨道(9)上连接有四个升降轴(8)；镀锅旋转轨道(9)的下方设有烘烤灯(11)；机构(1)的侧壁安装用于固定镀锅旋转轨道(9)的固定架(10)。
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