[实用新型]一种片内堆积多有源区半导体巴条激光器芯片有效

专利信息
申请号: 201721503477.7 申请日: 2017-11-13
公开(公告)号: CN207602981U 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 周立 申请(专利权)人: 苏州长光华芯光电技术有限公司
主分类号: H01S5/32 分类号: H01S5/32
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 温建洲
地址: 215163 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种片内堆积多有源区半导体巴条激光器芯片,包括:两个堆叠串联的有源区,其中,上有源区(101)和下有源区(103)之间通过隧道结(102)串联,在巴条发光单元(1)之间刻蚀一条平行于发光方向的隔离槽(2),隔离槽依次贯穿上有源区(101)、隧道结(102)及下有源区(103),其中,所述隧道结(102)是高掺杂的PN结,P层与N层厚度分别约5~10nm,掺杂浓度大于1019cm‑3,且隧道结界面必须是陡峭,即隧道结P层N层两侧的掺杂源扩散要小。
搜索关键词: 隧道结 巴条 源区 激光器芯片 多有源区 下有源区 隔离槽 半导体 串联 堆积 本实用新型 发光单元 掺杂源 高掺杂 堆叠 刻蚀 陡峭 发光 平行 掺杂 扩散 贯穿
【主权项】:
1.一种片内堆积多有源区半导体巴条激光器芯片,其特征在于,包括:两个堆叠串联的有源区,其中,上有源区(101)和下有源区(103)之间通过隧道结(102)串联,在巴条发光单元(1)之间刻蚀一条平行于发光方向的隔离槽(2),隔离槽依次贯穿上有源区(101)、隧道结(102)及下有源区(103),其中,所述隧道结(102)是高掺杂的PN结,P层与N层厚度分别约5~10nm,掺杂浓度大于1019cm‑3,且隧道结界面必须是陡峭,即隧道结P层N层两侧的掺杂源扩散要小。
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