[实用新型]一种控制制冷装置结露的系统有效
| 申请号： | 201721512106.5 | 申请日： | 2017-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN207965685U | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 高文宏;郭泽彬;赵鹏飞;郭金榜;李孟;王锦伟;侯茜 | 申请（专利权）人： | 北京镭创高科光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G05D23/20 | 分类号： | G05D23/20;H01S5/024 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区经济技*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种控制制冷装置结露的系统，应用于半导体激光器的制冷装置，包括处理器以及分别和处理器相连接的温度湿度采集器和制冷装置；其中，温度湿度采集器，用于实时检测制冷装置的工作环境中的温度和湿度，并将温度和湿度发送至处理器；处理器，用于根据温度和湿度，确定制冷装置当前时刻工作环境的露点温度，并判断露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。本实用新型中通过监测工作环境中的温度和湿度确定出工作环境中的露点温度，并根据露点温度对制冷温度进行调节，从而减小制冷装置对工作环境温度的影响，进而降低结露发生的可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 制冷装置 处理器 露点 结露 制冷 温度湿度采集器 控制制冷装置 本实用新型 预设 半导体激光器 湿度确定 实时检测 减小 发送 监测 应用 | ||
【主权项】：
1.一种控制制冷装置结露的系统，应用于半导体激光器的制冷装置，其特征在于，包括处理器以及分别和所述处理器相连接的温度湿度采集器和制冷装置；其中，所述温度湿度采集器，用于实时检测制冷装置的工作环境中的温度和湿度，并将所述温度和所述湿度发送至所述处理器；所述处理器，用于根据所述温度和所述湿度，确定所述制冷装置当前时刻的工作环境的露点温度，并判断所述露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。
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