[实用新型]一种激光二极管与背光探测器集成芯片有效

专利信息
申请号: 201721517175.5 申请日: 2017-11-14
公开(公告)号: CN207884067U 公开(公告)日: 2018-09-18
发明(设计)人: 丘文夫;林琦;林中晞;王凌华;徐玉兰;陈景源;苏辉 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: H01S5/026 分类号: H01S5/026
代理公司: 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 代理人: 刘元霞
地址: 350002 *** 国省代码: 福建;35
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摘要: 本公开涉及一种激光二极管与背光探测器集成芯片。所述芯片包括:一次外延样品;所述一次外延样品包括:n‑InP衬底(1)上依次生长n‑InP缓冲层(2),InGaAlAs下分别限制层(3),有源层(4),InGaAlAs上分别限制层(5),p‑InP腐蚀停止层(6),p‑InGaAsP接触层(7),p‑InP盖层(8);所述一次外延样品上形成了脊和隔离区,垂直脊的方向通过隔离区形成2个区域,包括吸收区和激光区。本实用新型制备的芯片具有光功率高,探测功率高,隔离效果好,耦合效率高,暗电流小的特点。
搜索关键词: 一次外延 背光探测器 激光二极管 集成芯片 隔离区 限制层 芯片 本实用新型 腐蚀停止层 隔离效果 探测功率 耦合效率 暗电流 光功率 激光区 接触层 吸收区 衬底 源层 制备 垂直 生长
【主权项】:
1.一种激光二极管与背光探测器集成芯片,其特征在于,该芯片包括:一次外延样品;所述一次外延样品包括:n‑InP衬底(1)上依次生长n‑InP缓冲层(2),InGaAlAs下分别限制层(3),有源层(4),InGaAlAs上分别限制层(5),p‑InP腐蚀停止层(6),p‑InGaAsP接触层(7),p‑InP盖层(8);所述一次外延样品上形成了脊和隔离区,垂直脊的方向通过隔离区形成2个区域,包括吸收区和激光区。
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