[实用新型]冷阱装置、尾气处理系统及半导体生产设备有效
申请号: | 201721533713.X | 申请日: | 2017-11-16 |
公开(公告)号: | CN207694291U | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 特洛伊·乔纳森·贝克;武泽成;王颖慧 | 申请(专利权)人: | 镓特半导体科技(上海)有限公司 |
主分类号: | B01D8/00 | 分类号: | B01D8/00;B01D49/00;B01D53/00;B01J19/00;B01J4/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供一种冷阱装置、尾气处理系统及半导体生产设备。冷阱装置包含冷却罐和沉淀罐,冷却罐包括冷却罐体及位于冷却罐体上的冷却管路,冷却罐体上设有进气口及排气口,进气口位于冷却罐的顶部,排气口位于冷却罐的底部;沉淀罐包括沉淀罐体,位于冷却罐的下方,沉淀罐体上设有进气口和排气口,进气口位于沉淀罐的顶部,且与冷却罐的排气口相连接。采用本实用新型的冷阱装置能用于对从反应腔室排出的废气进行预处理,避免粉尘沉积在抽气装置上造成抽气装置停机,同时减少抽气装置和尾气处理装置的废气处理量,且延长设备清洗和保养的周期以降低生产成本;本实用新型结构简单,成本低廉。 | ||
搜索关键词: | 冷却罐 进气口 冷阱装置 排气口 本实用新型 抽气装置 冷却罐体 沉淀罐 半导体生产设备 尾气处理系统 沉淀罐体 预处理 尾气处理装置 反应腔室 废气处理 粉尘沉积 冷却管路 设备清洗 排出 停机 保养 废气 | ||
【主权项】:
1.一种冷阱装置,其特征在于,所述冷阱装置包括:冷却罐,包括冷却罐体及位于所述冷却罐体上的冷却管路,所述冷却罐体包括内壁及外壁且所述冷却罐体上设有进气口及排气口,所述冷却罐的进气口位于所述冷却罐的顶部,所述冷却罐的排气口位于所述冷却罐的底部;沉淀罐,包括沉淀罐体,位于所述冷却罐的下方,所述沉淀罐体上设有进气口和排气口,所述沉淀罐的进气口位于所述沉淀罐的顶部,且与所述冷却罐的排气口相连接。
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