[实用新型]相移光纤布拉格光栅制备装置和相移光纤布拉格光栅有效

专利信息
申请号: 201721546792.8 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN207851345U 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 郭奎奎;王义平;何俊;徐锡镇 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 代理人: 王利彬
地址: 518060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型属于光纤光栅制造领域,公开了一种相移光纤布拉格光栅制备装置和相移光纤布拉格光栅,以制备出相移区相移量的大小可控且相移区两边光纤光栅有效折射率不同的相移光纤布拉格光栅。所述装置包括一个扫描程序控制器,用于根据来自光纤的输出端的透射谱,控制相移区的相移量大小以及通过控制高精度位移平台的平移速率,将相移区两边的光纤形成具有不同有效折射率的光纤布拉格光纤光栅。本实用新型提供的技术方案一方面使得相移光纤布拉格光栅的相移区的相移量大小可控;另一方面,将相移区两边的光纤形成具有不同有效折射率的光纤布拉格光纤光栅,从而使得本实用新型技术方案制备出的相移光纤布拉格光栅能够广泛应用于诸如单频光纤激光器等领域。
搜索关键词: 光纤布拉格光栅 相移 相移区 本实用新型 有效折射率 相移量 光纤布拉格光纤光栅 光纤光栅 制备装置 光纤 两边 可控 制备 单频光纤激光器 平移 精度位移 扫描程序 控制器 透射谱 输出 应用 制造
【主权项】:
1.一种相移光纤布拉格光栅制备装置,包括紫外激光器、光源、反射镜、光阑、柱透镜、相位掩膜板、位于所述柱透镜和相位掩膜板之间的挡板、位于所述相位掩膜板下方的高精度位移平台、光谱采集分析器以及位于所述高精度位移平台之上且用于放置光纤的两个三维调整架;所述紫外激光器用于提供相干光,所述反射镜用于将所述紫外激光器提供的相干光反射至光阑,所述光阑用于控制从所述反射镜反射过来的相干光的圆形光斑大小并将所述反射镜反射过来的相干光透射至所述柱透镜,所述柱透镜用于将所述光阑透射出的圆形光斑汇聚成线型光斑透射至所述挡板和所述相位掩膜板,所述挡板用于遮挡从所述柱透镜透射至所述相位掩膜板的相干光而在所述光纤上形成相移区,所述光源的输出端与所述光纤的输入端相连,所述光纤的输出端与所述光谱采集分析器相连,所述光谱采集分析器用于实时记录和监测来自所述光纤的输出端的透射谱;其特征在于,所述装置还包括与所述光谱采集分析器以及所述高精度位移平台相连的扫描程序控制器;所述扫描程序控制器,用于根据所述来自所述光纤的输出端的透射谱,控制所述相移区的相移量大小以及通过控制所述高精度位移平台的平移速率,将所述相移区两边的光纤形成具有不同有效折射率的光纤布拉格光纤光栅。
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