[实用新型]一种用于半导体器件剂量率效应实验的精密控温装置

摘要

本实用新型公开了一种用于半导体器件剂量率效应实验的精密控温装置，用于高温高剂量环境下的半导体器件辐照损伤实验，在大幅缩减辐照时间的情况下，达到模拟低剂量率损伤增强实验的目的；该精密控温装置包括耐高温结构陶瓷外壳、耐高温结构陶瓷管、电阻丝、隔热层、粒子入射窗口，粒子出射窗口、电缆接口、热电偶、样品盒、绝热环、电气控制柜、温控仪和计算机；所述精密控温装置耐高温结构陶瓷外壳设计为长方体形状，内壁设计为圆柱体形状。该装置可长时间工作于伽马射线辐照环境中，实时监测样品盒内部温度。控温精度高，温度场分布均匀。

主权项

1.一种用于半导体器件剂量率效应实验的精密控温装置，其特征在于，包括：耐高温陶瓷结构、远程控制线缆（15）、电气温控结构和计算机（14），耐高温陶瓷结构用于放置样品（8），耐高温陶瓷结构通过远程控制线缆（15）连接电气温控结构，电气温控结构连接计算机（14）；所述耐高温陶瓷结构包括耐高温材质的外壳（1）和内壁（4），外壳（1）和内壁（4）之间形成有空腔，内壁（4）为空中的筒状；所述内壁（4）内设置有样品盒（7），样品盒（7）的两端通过绝热环（9）径向安装于内壁（4）的中间位置；所述外壳（1）也呈筒状，外壳（1）和内壁（4）之间的空腔内设置有若干同轴向环形均匀分布的耐高温的陶瓷管（2），陶瓷管（2）内均设置有贯穿陶瓷管（2）的电阻丝（3）；所述外壳（1）和内壁（4）之间的空腔内，陶瓷管（2）周围填充有隔热层（10）。